涂層測(cè)厚儀產(chǎn)品及廠家
thick800a電鍍層測(cè)厚儀x射線膜厚儀是專門針對(duì)鍍層厚度測(cè)量而精心設(shè)計(jì)的款新型儀器。主要應(yīng)用于：金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定；黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè)。
更新時(shí)間:2025-10-23
thick800a新的鍍層測(cè)厚儀根據(jù)所測(cè)量產(chǎn)品的具體實(shí)際部分來分,測(cè)量產(chǎn)品的整體的,比如金屬板、玻璃板等的厚度的是超聲波測(cè)厚儀,這種儀器的稱呼也是根據(jù)原理來命名的,只能測(cè)量整塊的厚度，鍍層測(cè)厚儀,而不能測(cè)量表面油漆層或鍍層厚度,因?yàn)橐獪y(cè)量的東西通常都在毫米以上,所以般都是到毫米。
更新時(shí)間:2025-10-23
thick800a鍍錫測(cè)厚儀測(cè)量范圍較小，x射線法可測(cè)極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆層測(cè)厚時(shí)采用。
更新時(shí)間:2025-10-23
thick800axray膜厚測(cè)試儀主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測(cè)量法，稱重法，x射線熒光法，β射線反向散射法，電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等等。
更新時(shí)間:2025-10-23
thick800ax熒光鍍層檢測(cè)儀專門研發(fā)用于鍍層行業(yè)的款儀器，可自動(dòng)軟件操作，可多點(diǎn)測(cè)試，由軟件控制儀器的測(cè)試點(diǎn)，以及移動(dòng)平臺(tái)。
更新時(shí)間:2025-10-23
天瑞儀器thick 800ax熒光測(cè)厚光譜儀專門研發(fā)用于鍍層行業(yè)的款儀器，可自動(dòng)軟件操作，可多點(diǎn)測(cè)試，由軟件控制儀器的測(cè)試點(diǎn)，以及移動(dòng)平臺(tái)。是款功能強(qiáng)大的儀器，配上專門為其開發(fā)的軟件，在鍍層行業(yè)中可謂大展身手。
更新時(shí)間:2025-10-23
thick 800a測(cè)鍍層厚度儀器金屬基材：fe、cu、ni、zn、al、cr、mg、sn、pb、ag、pt、au；
更新時(shí)間:2025-10-23
thick 800a鍍層測(cè)厚元素分析儀用于金屬、非金屬或符合材料表面鍍層的分析，是具有成本效益的質(zhì)量控制工具，可提高生產(chǎn)效率、減少零件浪費(fèi)，同時(shí)減少生產(chǎn)成本。
更新時(shí)間:2025-10-23
涂層測(cè)厚儀bk8115，ce 認(rèn)證合格，簡(jiǎn)單、輕巧型、單手可操作，兩點(diǎn)校正，背光顯示，使用者可選擇μm/mils
更新時(shí)間:2025-10-23
涂層測(cè)厚儀鍍層膜厚儀德國(guó)原裝進(jìn)口優(yōu)惠價(jià)格德國(guó)epk公司（elektrophysik)一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)各種用于表面處理行業(yè)的精密測(cè)量的涂層測(cè)厚儀。作為無損涂層測(cè)厚儀領(lǐng)域的先驅(qū)，epk公司與各標(biāo)準(zhǔn)化組織和研究院一道，成功地推進(jìn)了涂層測(cè)厚儀在世界范圍內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程。大量的專利技術(shù)與成果表明epk公司是該涂層檢測(cè)的佼佼者。
更新時(shí)間:2025-10-23
涂鍍層測(cè)厚儀德國(guó)epk原裝進(jìn)口涂層檢測(cè)儀三十多年來 mikrotest已成為被廣泛應(yīng)用的自動(dòng)測(cè)定涂鍍層厚度的專用儀器。德國(guó)的“訣竅”說明它在工藝技術(shù)及精度方面，具有磁性涂層測(cè)厚儀的最高水準(zhǔn)。所有儀器均符合din、iso、bs及astm標(biāo)準(zhǔn)
更新時(shí)間:2025-10-23
儀器德國(guó)菲希爾fischer磁性渦流兩用型原裝正品涂層測(cè)厚儀新款dualscope mpo涂鍍層測(cè)厚儀采用廣受承認(rèn)的fischer探頭技術(shù)，是最為小巧并能最大程度滿足您測(cè)量需要的儀器。它測(cè)量精度高、界面友好且結(jié)實(shí)耐用。對(duì)不復(fù)雜工件的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量尤為理想。
更新時(shí)間:2025-10-23
thick800a 膜厚儀特點(diǎn)1.上照式2.儀高分辨率探測(cè)器3.鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)4.測(cè)試組件可升降5.可視化操作6良好的射線屛蔽
更新時(shí)間:2025-10-23
thick800a 膜厚儀特點(diǎn)1.上照式2.儀高分辨率探測(cè)器3.鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)4.測(cè)試組件可升降5.可視化操作6良好的射線屛蔽
更新時(shí)間:2025-10-23
鍍層膜厚測(cè)厚儀型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
更新時(shí)間:2025-10-23
電鍍層x射線光譜儀特點(diǎn)1.上照式2.儀高分辨率探測(cè)器3.鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)4.測(cè)試組件可升降5.可視化操作6良好的射線屛蔽
更新時(shí)間:2025-10-23
鍍層厚度檢測(cè)儀 型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
更新時(shí)間:2025-10-23
五金配件鈦合金檢測(cè)儀特點(diǎn)1.上照式2.儀高分辨率探測(cè)器3.鼠標(biāo)定位測(cè)試點(diǎn)4.測(cè)試組件可升降
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pcb多電鍍鍍層測(cè)厚儀 針對(duì)不規(guī)則樣品進(jìn)行高度激光定位測(cè)試點(diǎn)分析；軟件可分析5層25種元素鍍層；通過軟件操作樣品移動(dòng)平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)不同測(cè)試點(diǎn)的測(cè)試需求；配置高分辨率si-pin半導(dǎo)體探測(cè)器，實(shí)現(xiàn)對(duì)多鍍層樣品的分析；
更新時(shí)間:2025-10-23
x射線鍍層膜厚測(cè)厚儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-10-23
鍍層膜厚分析儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-10-23
鍍層膜厚分析儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-10-23
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-10-23
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-10-23
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-10-23
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-10-23
標(biāo)準(zhǔn)配置鍍層厚度分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。鍍層膜厚分析儀高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-10-23
鍍層厚度測(cè)量?jī)x鋅鎳合金專用光譜儀型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）
更新時(shí)間:2025-10-23
鉛玻璃屏蔽罩。合金鍍層膜厚儀高低壓電源。x光管。高度傳感器保護(hù)傳感器計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)
更新時(shí)間:2025-10-23
鉛玻璃屏蔽罩。合金鍍層膜厚儀高低壓電源。x光管。高度傳感器保護(hù)傳感器計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)
更新時(shí)間:2025-10-23
合金成分鍍層厚度膜厚儀 注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-10-23
合金成分鍍層厚度膜厚儀 注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-10-23
電鍍液鍍層含量測(cè)定鍍層測(cè)厚儀 型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。
更新時(shí)間:2025-10-23
鍍層膜厚儀 型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。
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xrf電鍍層膜厚儀 開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-10-23
xrf電鍍層膜厚儀 開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-10-23
xrf電鍍層膜厚儀 開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-10-23
鍍層厚度測(cè)試分析儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。
更新時(shí)間:2025-10-23
天瑞儀器thick800a 注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞
更新時(shí)間:2025-10-23
x射線鍍層測(cè)厚檢測(cè)儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。高低壓電源。x光管。
更新時(shí)間:2025-10-23
國(guó)產(chǎn)鍍層膜厚儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-10-23
國(guó)產(chǎn)鍍層膜厚儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-10-23
國(guó)產(chǎn)x鍍層測(cè)厚儀開放式樣品腔。二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和x光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。雙激光定位裝置。鉛玻璃屏蔽罩。高低壓電源。
更新時(shí)間:2025-10-23
天瑞儀器光譜儀thick800a 同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
更新時(shí)間:2025-10-23
x鍍層測(cè)厚儀注意事項(xiàng)開啟儀器電源開關(guān)時(shí)，動(dòng)作要慢、不可用力過猛、以免損壞按鍵。向樣品腔放置樣品時(shí)，要注意樣品的潔凈，不可使塵粒掉入其中，否則會(huì)污染x光管和探測(cè)器窗口，造成測(cè)量失準(zhǔn)和探頭損壞；同時(shí)，還要注意輕拿輕放（使用鑷子等器具取放樣品），以免測(cè)量窗口的薄膜被破壞。
更新時(shí)間:2025-10-23
電鍍滾鍍廠測(cè)厚儀：thick800a測(cè)定步驟：步：新建snpb-cu鍍層厚度標(biāo)準(zhǔn)曲線第二步：確定測(cè)試時(shí)間：40s第三步：測(cè)試其重復(fù)性得出相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差
更新時(shí)間:2025-10-23
x射線鍍層測(cè)厚檢測(cè)儀針對(duì)不規(guī)則樣品進(jìn)行高度激光定位測(cè)試點(diǎn)分析；軟件可分析5層25種元素鍍層；通過軟件操作樣品移動(dòng)平臺(tái)，實(shí)現(xiàn)不同測(cè)試點(diǎn)的測(cè)試需求；配置高分辨率si-pin半導(dǎo)體探測(cè)器，實(shí)現(xiàn)對(duì)多鍍層樣品的分析；
更新時(shí)間:2025-10-23
電鍍層測(cè)厚儀型號(hào)：thick 800a元素分析范圍從硫(s)到鈾（u）。同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。分析含量一般為ppm到99.9% 。鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。
更新時(shí)間:2025-10-23
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