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其它產(chǎn)品及廠家

硅片HMDS涂布機(jī)臺，4寸Wafer hmds烤箱

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

晶圓烤箱，超潔凈烤箱

晶圓烤箱，超潔凈烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧烤箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

脫模劑蒸鍍機(jī)，脫模劑鍍膜烤箱

脫模劑蒸鍍機(jī)，脫模劑鍍膜烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體，光電、電子行業(yè)硅片、砂紙或石英硬模板等材料。

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

氣相成底膜烤箱，HMDS蒸氣淀積系統(tǒng)

氣相成底膜烤箱，hmds蒸氣淀積系統(tǒng)用于除去硅片表面的污染物（顆粒、有機(jī)物、工藝殘余、可動離子），除去水蒸氣，使基底表面由親水性變?yōu)樵魉�，增�?qiáng)表面的黏附性（hmds-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱

智能型無塵無氧烘箱、厭氧潔凈烘箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb 板、ito 玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業(yè).用于企業(yè)生產(chǎn)、科研或高校實驗室等工藝。

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

HMDS鍍膜烤箱，HMDS真空鍍膜系統(tǒng)

hmds鍍膜烤箱，hmds真空鍍膜系統(tǒng)預(yù)處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能；，有可自動吸取添加hmds功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

PI固化用厭氧烘箱，聚酰亞胺固化爐2023動態(tài)已更新《新品/推薦》

pi固化用厭氧烘箱，聚酰亞胺固化爐應(yīng)用聚酰亞胺時需要注意的問題是厚度控制和亞胺化處理。

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

真空鍍膜機(jī)，脫模劑烤箱

真空鍍膜機(jī)，脫模劑烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、電子行業(yè)，硅片、石英等納米壓印模板材料

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

HMDS涂膠系統(tǒng)，HMDS涂膠烤箱

hmds涂膠系統(tǒng)，hmds涂膠烤箱

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司

真空無氧烘箱，高溫?zé)o氧真空烤箱

真空無氧烘箱，高溫?zé)o氧真空烤箱用于pi膠、bcb膠固化，鍵合材料預(yù)處理，ito膜退火，pr膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、pcb板、半導(dǎo)體封裝、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門。

更新時間:2025-10-28

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實驗儀器有限公司