儀器簡介：

        MCR流變儀的光學測量控溫平臺，可以實現(xiàn)一平臺多功能的目的，在一個光學控溫平臺上，可以進行顯微可視、UV光固化、偏光成像、熒光顯微、小角激光散射（SALS）、紅外光譜聯(lián)用、拉曼光譜聯(lián)用等流變-光學同步測量功能，可以在進行流變測試的同時觀察樣品的微觀結構、進行光譜分析。

       光學控溫平臺有兩種，一個是Peltier控溫系統(tǒng)，溫度范圍為-20℃ - 200℃；另一個是電加熱控溫系統(tǒng)，溫度范圍為RT - 300℃。兩種控溫系統(tǒng)均由下加熱板和上加熱罩組成，可實現(xiàn)準確均勻的溫度控制。

       光學顯微可視模塊與流變學方法相結合，可以觀察剪切力和變形力對樣品微觀結構的影響，結構參數(shù)和流變參數(shù)可以同時進行研究。例如，您可以通過顯微鏡觀察和記錄剪切場中不同位置的受剪切乳液結構。

        在此控溫平臺基礎上可使用的光學模塊包含以下幾個方面：

顯微可視模塊

        長焦物鏡，標準放大倍數(shù) 20X（可按需提供 5X、10X 和 50X 的物鏡）

UV光固化測量模塊

       用于研究光固化或老化反應的UV測量模塊可以對樣品施加UV照射，可選擇高壓汞燈或LED光源。

SALS小角激光散射模塊

       用于研究樣品內微米尺寸范圍的結構信息，通過激光散射分析分散相結構的尺寸信息、取向信息，主要用于乳液、液晶、懸浮液等分散性體系樣品。

偏光成像模塊

        主要用于聚合物熔體的剪切誘導結晶研究，觀察樣品在剪切脈沖作用下的結晶偏光圖像。